Η διαδικασία καθαρισμού με παλμικό λέιζερ υψηλής ισχύος εξαρτάται από τα χαρακτηριστικά των παλμών φωτός που παράγονται από το λέιζερ ινών και βασίζεται σε μια φωτοφυσική αντίδραση που σχηματίζεται από την αλληλεπίδραση μεταξύ της δέσμης υψηλής έντασης, του λέιζερ βραχέων παλμών και του μολυσμένου στρώματος .
Οι φυσικές αρχές μπορούν να συνοψιστούν ως εξής:
(1) Η ακτίνα που εκπέμπεται από το λέιζερ απορροφάται από το μολυσμένο στρώμα στην επιφάνεια που πρόκειται να υποβληθεί σε επεξεργασία.
(2) Η απορρόφηση μεγάλης ενέργειας για το σχηματισμό ενός ταχέως διαστελλόμενου πλάσματος (υψηλά ιονισμένο ασταθές αέριο), με αποτέλεσμα κρουστικά κύματα.
(3) Το κρουστικό κύμα προκαλεί τον κατακερματισμό και την απόρριψη της ρύπανσης.
4) Το πλάτος του παλμού φωτός πρέπει να είναι αρκετά μικρό ώστε να αποφευχθεί η συσσώρευση θερμότητας που καταστρέφει την επιφάνεια που υποβάλλεται σε επεξεργασία.
5) Το πλάσμα παράγεται στην μεταλλική επιφάνεια όταν υπάρχουν οξείδια στην επιφάνεια.
